光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的,以后才用于电子工业。光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。
为了避免光刻胶线条的倒塌,线宽越小的光刻工艺,就要求光刻胶的厚度越薄。在20nm技术节点,光刻胶的厚度已经减少到了100nm左右。但是薄光刻胶不能有效的阻挡等离子体对衬底的刻蚀 。为此,研发了含Si的光刻胶,这种含Si光刻胶被旋涂在一层较厚的聚合物材料(常被称作Underlayer),其对光是不敏感的。曝光显影后,利用氧等离子体刻蚀,把光刻胶上的图形转移到Underlayer上,在氧等离子体刻蚀条件下,含Si的光刻胶刻蚀速率远小于Underlayer,具有较高的刻蚀选择性 。
在这种情况下,光刻胶的颗粒管控就显得尤为重要。PMT-2在光刻胶应用中一般常用0.06-0.2um和0.1-0.5um,这两个检测范围。普洛帝测控给某院某部门提供了成套的光刻胶检测系统。本系统已经应用到实际监测中,并良好运转。
不溶性微粒检查仪对大输液的颗粒管控,遵循中国药典2020版附录C0903不溶性微粒检查法的不溶性微粒检查,同时可以进行在线过程质量控制和产品评价。
清剂产生液体颗粒污染主要原因及管控办法清剂化学品杂质来源主要由以下几种方式引入:一是原料带入。即需要净化的原料本身的杂质;二是外界引入。由于高纯电子级酸多具有强腐蚀性,在实验和存贮过程中接触的器皿如不锈钢设备 、管道 、泵阀 、螺丝等,塑料设备和包装存贮材料(往往含有增塑剂增强剂&
随着科技和现代工业的进步与发展,许多行业对工作 介质(气体和液体)以及生产环境的洁净度(污染度)检 测提出了越来越高的要求。为了定量描述介质的清洁程度, 世界上很多国家都制定了洁净度检测和控制标准,将介质 中微小颗粒污染物的数量和粒径大小作为衡量其洁净度的 重要指标。检测液体介质中颗粒的方法有很多,有间接通